Риссел Х., Руге И., Ионная имплантация.
Пер. с нем.

1983, изд-во: Наука, город: Москва, стр. : 360 с., ил., обложка: Твердый издательский переплет., формат: Обычный, состояние: Отличное. В книге кратко излагаются теоретические основы ионной имплантации. Описаны различные методы исследования имплантированных слоев, оборудование и технология ионного легирования. Рассмотрены проблемы, связанные с пассивацией и локализацией р - n-структуры. Приведены примеры использования ионной имплантации для создания различных классов дискретных полупроводниковых и оптоэлектронных приборов, а также в "имплантационной" металлургии.